散热基板的制备工艺与其材料类型密切相关,不同基材(金属、陶瓷、复合材料等)的工艺路径差异显著,核心目标是实现 “效导热”“结构稳定”“功能兼容(如绝缘、导电)”。以下按主流基板类型详细介绍其制备工艺:
金属基板以金属(铝 / 铜)为散热基层,表面复合绝缘层和电路层,适用于中低功率场景(如 LED、消费电子),工艺核心是 “绝缘层与金属 / 电路层的稳定结合”。
基材预处理
金属基层(铝 / 铜)需进行表面粗化(如喷砂、化学蚀刻),除氧化层并增加表面积,提升与绝缘层的结合力;
电路层(铜箔)需脱脂、酸洗,确保表面洁净。
绝缘层制备
常用材料:环氧树脂、聚酰亚胺(PI)、硅胶等(添加导热填料如氧化铝、氮化硼颗粒提升导热性);
工艺:通过刮刀涂布、流延或丝网印刷将绝缘浆料涂覆在金属基层表面,厚度控制在 20-150μm;
固化:在 120-180℃烘箱中固化 1-3 小时,形成绝缘层(导热系数 0.5-3W/(m・K)),需保证无气泡、均匀性(偏差≤5%)。
电路层结合与成型
将预处理后的铜箔(电路层)与绝缘层热压合(温度 150-200℃,压力 5-10MPa),确保界面无空隙;
电路图形化:通过光刻、蚀刻(酸性蚀刻液如 FeCl₃)除多余铜箔,形成所需电路图案;
后处理:边缘裁切、表面涂覆氧化层(如镀锡),完成金属基板制备。